乍一看光刻機和蝕刻機非常接近,但是光刻機和蝕刻機卻不能混為一談,因為蝕刻只是制造芯片其中之一的環節罷了。而刻蝕機也只是諸多芯片制造設備其中之一。下面我給大家聊一下蝕刻機。
刻蝕機和光刻機的區別
工作原理不同
如果把制造芯片比喻成蓋房子,那么光刻機的作用就是把房子的結構標注在地上。刻蝕機就是在光刻完成以后才登場的設備,也是光刻完成以后最為重要的設備之一。刻蝕機最主要的作用就是按照光刻機已經標注好的線去做基礎建設,把不需要的地方給清除掉,只留下光刻過程中標注好的線路。
結構不同
光刻機的最主要的核心技術就是光源和光路,其光源和光路的主要組成部分有四個,光源、曝光、檢測、和其他高精密機械組成。對比之下,蝕刻機的結構組成就要簡單很多,主要是等離子體射頻源、反應腔室和真空氣路等組成。
售價不同
ASML的EUV光刻機單臺售價高達1.2億美元,而蝕刻機的售價就要低很多了,每臺售價在幾十萬到幾百萬美元之間。
蝕刻機的相關工作原理我之前有發文,有感興趣的可以去我主頁去找,這里我也不再過多敘述。
國產蝕刻機就給我國半導體領域做了一個很好的榜樣,我國中微半導體研發出國際主流的5nm蝕刻機并取得臺積電的認證后,美國商務部就把蝕刻機從對華出口限制清單上移除了。這充分說明了一件事情,只要自己有了核心技術,對手就沒法再打壓你。
總體來說,我國在半導體領域還相對比較落后,還有較長的路要走,但是只要我們堅持走下去,就一定可以看見彩虹。